TSMC ще получи първата си най-модерна литографска машина High NA EUV (High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet) на ASML до края на 2024 г., според японската медия Nikkei Asia. Всяка High NA EUV машина струва над 350 милиона долара и ще позволи на производителите на полупроводници да произвеждат по-малки чипове. Въпреки че High NA EUV предлага по-фина разделителна способност от текущия стандарт EUV, производителите на чипове все още трябва да направят допълнителни корекции на дизайна, за да произвеждат по-модерни чипове. Големите компании за производство на полупроводници инвестират значителни средства за разработване на модерни технологии за опаковане, целящи да интегрират повече чипове в опаковката, за да подобрят допълнително производителността на чиповете. Съперникът на TSMC Samsung ще инсталира първата си High NA EUV литографска машина през първото тримесечие на 2025 г., казаха източници. [Nikkei Asia]
Свързани
Нашия източник е Българо-Китайска Търговско-промишлена палaта